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溫室西瓜栽培,怎樣設計株行距?如何進行留蔓、整蔓和吊秧?
  在溫室中栽培西瓜,可以利用設施的有利條件,實行寬窄行、吊秧、籬架栽培,一般寬行距90--100厘米、窄行距40—50厘米,株距按40--50厘米,其栽植密度提高至1800--2400株/畝。
  西瓜定植后,為提高早期葉面積系數(shù),不可急于抹芽,應讓其隨意生長,盡快增加葉面積,促根壯秧。待瓜秧長至60厘米以上時,方可抹芽打杈。抹芽時先選留4條大蔓(包括主蔓),讓其繼續(xù)生長,其余的小瓜蔓一律疏除。
  留下的瓜蔓,從中選出兩條較大的瓜蔓,用吊瓜線按吊架黃瓜的方法,吊向空中,吊蔓時要采取“S”型纏蔓,使瓜蔓彎曲上升,以緩和瓜蔓長勢,和充分利用空間。瓜蔓葉腋間發(fā)出的二次副蔓,除座瓜節(jié)位處的1條,留3—4葉摘心,保留外,其余副蔓要全部及早疏除,以防止生長點過多,造成營養(yǎng)競爭,惡化光照條件,影響座瓜。
  對另外二條瓜蔓,一條留8—10葉摘心,并抹除其二次副蔓,另一條瓜蔓,要及時抹除二次副蔓,讓其在行間地面上延伸,人工授粉的同時摘除其生長點及其副蔓,排除競爭,以利座瓜。
  這樣操作,可以在西瓜的生育早期,較多地保留成齡葉片,增大瓜田早期的葉面積系數(shù),充分利用空間。較大的葉面積,能較多地制造有機營養(yǎng),促進根系發(fā)達、壯秧、促瓜,為以后的高產(chǎn)優(yōu)質打下基礎。
  西瓜坐穩(wěn)以后,一般情況下,隨著幼瓜的加速膨大,瓜秧營養(yǎng)生長會逐漸減慢、直至停止。但在溫室中栽培,因栽植密度大,肥水充足,瓜秧仍會旺長不停,若任其生長,會造成瓜秧郁閉,光照條件惡化,減少光合產(chǎn)物的積累,造成西瓜減產(chǎn),且易誘發(fā)病害。
  因此,要注意及時控制瓜秧長勢,一旦瓜秧長至長2米左右時,要及時摘除瓜頭,疏除分杈。改善光照條件,提高光合效率,并抑制瓜秧營養(yǎng)生長長勢,促進有機營養(yǎng)輸入中心及時地轉向幼瓜。
摘自:《溫室蔬菜控害減災增收技術問答》

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